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Halbleiter

Kunden aus dem Elektronikbereich verlangen ein Höchstmaß an Sauberkeit. Flecken auf den produzierten Teilen und Verunreinigungen durch z.B. Silizium oder Phosphor während der Herstellungs- und Reinigungsprozesse müssen vermieden werden. Insbesondere bei EUV-Lithographieanlagen. EUV  ist ein Photolithographieverfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV), so genannte extreme ultraviolette Strahlung (EUV), verwendet.

Die EUV-Lithografie ermöglicht es, nach Ausschöpfung der bisherigen Belichtungsmethoden die Strukturen in der Halbleiterindustrie weiter zu verkleinern, um kleinere, effizientere und schnellere integrierte Schaltkreise herstellen zu können.

 

Schmierungslösungen für Werkzeugmaschinen und Lithografiemaschinen

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